產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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等離子濺射和蒸發(fā)二合一... 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
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等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍... CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀，可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡...
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小型二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
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小型高真空二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
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等離子濺射和碳蒸發(fā)二合... 等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置，配有雙級旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，可將等離子濺射和蒸發(fā)集成到一臺小型機器...
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多功能鍍膜儀 多功能鍍膜儀是我公司獨立研發(fā)的新型產(chǎn)品，既可進行等離子濺射法鍍膜，也可進行蒸發(fā)鍍膜。這款多功能鍍膜儀可以與分子泵或者旋片...
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高真空多弧離子鍍膜儀 CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）...
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實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積...
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多弧離子鍍膜儀 本設(shè)備為多弧離子鍍膜設(shè)備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)...
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PLD脈沖激光濺射沉積... 該PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備系列設(shè)備主要用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔...
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離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀 該電子束蒸發(fā)方式鍍膜儀，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其...
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電子束蒸發(fā)鍍膜 該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理...
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小型粉末PVD包覆系統(tǒng) 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。小型粉末PVD包覆系統(tǒng)粉末在振動樣...
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激光鍍膜設(shè)備 激光鍍膜設(shè)備系統(tǒng)由真空腔室（主濺射室、進樣室）、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算...
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電子束蒸發(fā)鍍膜儀 電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安...
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ALD原子層沉積系統(tǒng) 原子層沉積（ALD）系統(tǒng)是一種用于在基板表面沉積超薄膜的精密設(shè)備，具有原子級別的厚度控制能力。ALD系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體制...
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派瑞林真空氣相沉積 派瑞林真空氣相沉積是一種專業(yè)的產(chǎn)品，用于在材料表面上制備薄膜。它采用了在真空環(huán)境中使用氣相化學(xué)反應(yīng)來沉積薄膜的先進過程。...
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迷你石墨烯CVD設(shè)備 迷你石墨烯CVD設(shè)備專為石墨烯生產(chǎn)設(shè)計配有高精度質(zhì)量流量計以及薄膜真空規(guī)。迷你石墨烯CVD設(shè)備同時設(shè)備配有可燃氣體檢測裝...
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1200℃高真空迷你C... 1200℃高真空迷你CVD設(shè)備核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱。1200℃高真空迷你CVD設(shè)備包含一臺三路浮子流量計...
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晶圓級大尺寸二硫化鉬制... 晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備包括三溫區(qū)管式爐，特殊設(shè)計的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備通過...
